ASTM F 66-1984 微电子器件制造用光敏抗蚀剂的试验方法

作者:标准资料网时间:2024-04-28 04:31:58 浏览:8555 来源:标准资料网

【英文标准名称】:TestMethodsforTestingPhotoresistsUsedinMicroelectronicFabrications
【原文标准名称】:微电子器件制造用光敏抗蚀剂的试验方法
【标准号】:ASTMF66-1984
【标准状态】:现行
【国别】:美国
【发布日期】:1984
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(ASTM)
【起草单位】:ASTM
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:电子工程;光导电池;微电子学;生产;试验
【英文主题词】:electronicengineering;microelectronics;testing;production;photoconductivecells
【摘要】:
【中国标准分类号】:L04
【国际标准分类号】:87_040
【页数】:9P;A4
【正文语种】:英语

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标准名称：	工业循环冷却水中铵的测定蒸馏和滴定法
中标分类：	环境保护 >> 环境保护采样、分析测试方法 >> 水环境有毒物质分析方法
ICS分类：	环保、保健与安全 >> >> 工业用水
替代情况：	被HG/T 2158-2011代替
发布日期：	1991-09-16
实施日期：	1992-01-01
首发日期：	1900-01-01
作废日期：	2012-07-01
出版日期：	1900-01-01
页数：	5页